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该电镀方法可以以较高的沉积速率在互相连接的凹槽内嵌入金属镀层，并使其表面没有空隙。该电镀方法包括：（1）准备一个表面有互相连接的凹槽的基体；（2）对该基体进行第一步预处理，将其浸入含有促进剂、金属离子和一种酸的溶液中；（3）对该基体进行第二步预处理，将其浸入含有一种添加剂的溶液中，
电镀方法和电镀设备
【摘 要】
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该电镀方法可以以较高的沉积速率在互相连接的凹槽内嵌入金属镀层，并使其表面没有空隙。该电镀方法包括：（1）准备一个表面有互相连接的凹槽的基体；（2）对该基体进行第一步预处理，将其浸
【出 处】
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电镀与环保
【发表日期】
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2011年5期
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