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基于硅芯片与铜引线焊接后的焊接强度测试结果不理想，探讨硅层断裂而焊接拉力并非为最佳的问题．分别从硅材料、焊接应力、铜扩散以及无铅制造等方面综述引起芯片断裂的原因，并结合生产工艺在解决应力影响和焊料方面提出可行的改善方法．
硅芯片断裂原因分析与工艺改善
【摘 要】
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基于硅芯片与铜引线焊接后的焊接强度测试结果不理想，探讨硅层断裂而焊接拉力并非为最佳的问题．分别从硅材料、焊接应力、铜扩散以及无铅制造等方面综述引起芯片断裂的原因，并结
【机 构】
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苏州工业职业技术学院电子与通信工程系
【出 处】
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湖北工业大学学报
【发表日期】
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2012年4期
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