【摘 要】
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采用磁控溅射法在Si（111）和玻璃衬底上制备出不同Mn掺杂含量的Ga2O3薄膜，使用扫描电子显微镜、电子能谱仪、X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计等对Mn掺杂Ga2O3薄膜的表面形貌、
【机 构】
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郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室
【基金项目】
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河南省教育厅自然科学研究计划（2006140009）
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采用磁控溅射法在Si（111）和玻璃衬底上制备出不同Mn掺杂含量的Ga2O3薄膜，使用扫描电子显微镜、电子能谱仪、X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计等对Mn掺杂Ga2O3薄膜的表面形貌、结晶特性和光吸收性能进行了研究。结果表明，适量掺杂Mn可抑制薄膜的晶格膨胀，促进Ga2O3薄膜晶粒的定向生长，得到尺寸分布较均匀的多面体晶粒。Mn掺杂使Ga2O3价带顶向带隙延伸，光学带隙变窄，吸收边红移，近紫外区吸收增强。
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