808nm半导体激光器腔面硫钝化工艺研究

来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:rui_lucky
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对808nm大功率半导体激光器腔面硫钝化处理的工艺进行了研究,发现腔面硫钝化可以提高激光器的输出特性以及其可靠性.输出功率提高了16.7%;经过1500h老化实验后,硫钝化的半导体激光器没有明显退化,而未处理的激光器退化严重.输出功率降低了36.8%。实验表明,硫钝化时间对激光器钝化效果有很大影响,激光器腔面硫钝化时间过长会造成其损伤,使其可靠性反而下降;硫钝化5min效果为最佳。
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