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直接写入电子束光刻中的辐照损伤
直接写入电子束光刻中的辐照损伤
来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xtwjun
【摘 要】
:
对电子束曝光时间和束流改变引起的MOS器件阈值电压有效迁移率的变化以及辐照损伤的消除作了研究,并对辐照损伤及退火的机理进行了探讨。
【作 者】
:
朱文珍
川村邦子
【机 构】
:
中国科学院半导体所
【出 处】
:
半导体技术
【发表日期】
:
1995年2期
【关键词】
:
电子束
光刻
辐照损伤
氧化层电荷
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对电子束曝光时间和束流改变引起的MOS器件阈值电压有效迁移率的变化以及辐照损伤的消除作了研究,并对辐照损伤及退火的机理进行了探讨。
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