【摘 要】
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专利申请的范围:1.在低压容器内,用辉光放电而使工件进行表面处理的方法中,离子硫氮共渗是以NH_3和 H_2S 混合气的辉光放电处理为特征的。2.在 NH_3、H_2S 气内掺入 H_2、Ar
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专利申请的范围:1.在低压容器内,用辉光放电而使工件进行表面处理的方法中,离子硫氮共渗是以NH_3和 H_2S 混合气的辉光放电处理为特征的。2.在 NH_3、H_2S 气内掺入 H_2、Ar、He一种或多种的混合气中进行辉光处理也是离子硫氮共渗的一个特征。3.在第1项中,NH_3量为:95%≤NH_3%<100%(vt%)。4.在第1项或第2项中 H_2S 量为:0.01～5%(vt%)。
The scope of the patent application: 1. In a low pressure vessel, glow discharge and the workpiece surface treatment method, the ion sulfur nitrogen gas infiltration with NH3 and H2S mixed gas glow discharge treatment is characterized. 2. In the NH_3, H_2S gas mixed with H_2, Ar, He one or more of the mixed gas glow treatment is also a feature of ion sulfuritriding. 3. In item 1, the amount of NH 3 is: 95% ≤NH_3% <100% (vt%). 4. In Item 1 or Item 2, the amount of H 2 S is 0.01 to 5% (vt%).
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