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在氩氧混合气氛中,常温下用脉冲磁控溅射方法在石英玻璃和硅片上制备了V2O5薄膜.用X射线衍射、X射线光电子谱和原子力显微镜对薄膜微观结构进行了测试,用分光光度计测量从200~2 500 nm波段V2O5薄膜的透射和反射光谱.结果表明,常温下制备的V2O5薄膜为非晶结构,光学能隙为2.46 eV.