日本发明新型透明材料

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日本大阪府立产业技术综合研究所最近开发出可遮挡电子仪器发出的电磁波的透明材料,这种新材料是在常温下将氧化铟锡薄膜固定在透明塑料上制成的。而氧化铟锡薄膜是利用在真空罐中加上高压电而产生等离子的方法,在大约1mm厚的聚碳酸酯板上取得。通过控制真空罐内的氧气的 Osaka Prefecture, Japan Institute of Industrial Technology recently developed to block the electromagnetic waves emitted by electronic equipment transparent material, this new material is at room temperature, indium tin oxide film is fixed to the transparent plastic made. The indium tin oxide film is obtained by applying a high-voltage power in a vacuum tank to generate a plasma on a polycarbonate plate having a thickness of about 1 mm. By controlling the oxygen in the vacuum tank
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