【摘 要】
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以十二胺（DDA）或十八胺（ODA）为模板剂,采用焙烧或萃洗法去除模板剂制备中孔分子筛（HMS）.X射线粉末衍射（XRD）及氮吸附表征结果说明,以十二胺为模板剂且采用焙烧法去除模板剂制备的分子
【机 构】
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南开大学环境科学与工程学院环境污染过程与基准教育部重点实验室
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以十二胺（DDA）或十八胺（ODA）为模板剂,采用焙烧或萃洗法去除模板剂制备中孔分子筛（HMS）.X射线粉末衍射（XRD）及氮吸附表征结果说明,以十二胺为模板剂且采用焙烧法去除模板剂制备的分子筛具有明显的XRD介孔衍射峰,而且其氮吸附曲线具有典型的IV类等温线特征及H1型脱附滞后环,这属于典型的介孔材料特征.以此分子筛为载体,通过F—C反应将磺酸铁酞菁（FePcS）修饰在HMS上,得到新型光催化剂.催化剂的BET比表面积为675.1m2·g-1,平均孔径为5.78nm,孔容为0.587cm3&#
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