【摘 要】
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日本Matsushita Electric Works,Ltd.开发一种用离子束和电子枪生产高致密度、耐腐性好的氮化钛膜生产技术。新方法称为“离子束加速的气相沉积法”,即用反应性离子枪发射氮
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日本Matsushita Electric Works,Ltd.开发一种用离子束和电子枪生产高致密度、耐腐性好的氮化钛膜生产技术。新方法称为“离子束加速的气相沉积法”,即用反应性离子枪发射氮时,用电子枪汽化钛,使氮化钛气相沉积在基体上,而后用离子枪射击基体表面。由这种方法生成
Matsushita Electric Works, Ltd., Japan, has developed a titanium nitride film production technology using ion beam and electron gun to produce high density and corrosion resistance. The new method is called “ion beam accelerated vapor deposition method”. That is, when the reactive ion gun is used to emit nitrogen, the titanium is vaporized by the electron gun, the titanium nitride is vapor-deposited on the substrate, and then the ion gun is used to shoot the surface of the substrate. Generated by this method
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