Prediction of electromigration failure in passivated polycrystalline line

来源 :光学精密工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：ytx200909

【摘要】

：

Recently,a governing parameter for electromigration damage in passivated polycrystalline lines,AFDgent,was formulated considering the effect of the atomic densi

【作者】

：

KazuhikoSasagawa MasatakaHaseg

【机构】

：

DepartmentofIntelligentMachinesandSystemEngineering,DepartmentofMechanicalEngineering,TohokuUniversi

【出处】

：

光学精密工程

【发表日期】

：

2003年2期

【关键词】

：

多晶线钝化失效电迁移预报 electromigration passivated polycrystalline

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Recently,a governing parameter for electromigration damage in passivated polycrystalline lines,AFDgent,was formulated considering the effect of the atomic density gradient.In this study,a prediction method for electromigration failure in a passivated poly

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