含硅羟基磷灰石的水热合成与结构表征

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以Ca(NO3)2、(NH4)3PO4、Si(OCH2CH3)4(TEOS)为原料,在200℃下水热处理8 h制得含硅羟基磷灰石(Si-HA)粉体.通过X-射线荧光光谱(XRF)、X-射线衍射(XRD)、红外光谱(FTIR)、透射电镜(TEM)、差示扫描量热仪(DSC)对Si-HA的晶相、化学组成、形貌和热稳定性进行了分析.结果表明:硅酸根替代部分磷酸根进入HA的晶格中,没有改变HA的晶体结构,但会导致羟基流失、HA的晶胞参数发生变化,并抑制HA晶体的长大,少量硅的掺入不会降低HA的热稳定性.
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