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本文对新型薄膜磁头材料ＦｅＳｉＡｌ合金进行了研究，发现氩压和衬底温度直接影响着膜的结构和磁学性能。当氩压在０．１Ｐａ左右，衬底温度高于２５０℃时，淀积薄膜具有良好的软磁性能，满足ＭＩＧ磁头材料要求。
磁性FeSiAl合金薄膜的研究
【摘 要】
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本文对新型薄膜磁头材料ＦｅＳｉＡｌ合金进行了研究，发现氩压和衬底温度直接影响着膜的结构和磁学性能。当氩压在０．１Ｐａ左右，衬底温度高于２５０℃时，淀积薄膜具有良好的软磁性能，满足ＭＩＧ磁头材料要求。
【机 构】
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电子科大信材学院
【出 处】
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磁性材料及器件
【发表日期】
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1994年2期
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