【摘 要】
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采用X射线荧光光谱法测定高性能陶瓷中的硅元素含量,系统研究了熔剂、稀释比、脱模剂、熔融温度与时间对测定结果的影响,并分析了产生这些影响的机理。结果表明,当无水四硼酸
【机 构】
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厦门大学材料学院高性能陶瓷纤维教育部重点实验室
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采用X射线荧光光谱法测定高性能陶瓷中的硅元素含量,系统研究了熔剂、稀释比、脱模剂、熔融温度与时间对测定结果的影响,并分析了产生这些影响的机理。结果表明,当无水四硼酸锂、碳酸锂、样品三者质量比(m(无水四硼酸锂)∶m(碳酸锂)∶m(样品))=8.0∶1.5∶0.2时,在1 050℃下先预熔5min、再摇摆熔融10min,可以获得高质量的熔片。硅的质量浓度在55%～70%时,相关系数为0.9997,方法检出限为0.81%。硅元素的加标质量为0.02g时,加标回收率为98.5%～99.0%。此方法已应用到日常陶瓷样品的检测。
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