Formation of Ti-N graded bioceramic layer by DC hollow-cathode plasma nitriding

来源 :中国有色金属学会会刊：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：G00G01

【摘要】

：

Ti-N graded ceramic layer was formed on titanium by using DC hollow-cathode plasma nitriding technique. The structure of Ti-N layer was analyzed using X-ray dif

【作者】

：

ZHENG Chuan-lin

【机构】

：

DepartmentofMechanicalEngineering

【出处】

：

中国有色金属学会会刊：英文版

【发表日期】

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2004年z1期

【关键词】

：

Ti-N GRADED ceramic LAYER HOLLOW-CATHODE plasma nitriding

【基金项目】

：

Project(50271045) supported by the National Natural Science Foundation of China, Project supported by the Talent Foundation of Beijing Jiaotong University, China

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Ti-N graded ceramic layer was formed on titanium by using DC hollow-cathode plasma nitriding technique. The structure of Ti-N layer was analyzed using X-ray diffractometry(XRD) with Cu Kα radiation, and the microhardness( HV0.1) was measured from the surf

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