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微透镜阵列的制备已经成为微光学领域的研究热点。利用两次X光移动光刻技术，以聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)为正光刻胶，在PMMA基板上制造了微透镜阵列，并对其制作原理进行了详细说明。设计了制备微透镜阵列用的掩膜图形，并通过掩膜图形模拟仿真，预测了微透镜在两次移动曝光显影后的形状。第一次X光移动光刻后，理论上会得到半圆柱状三维结构；第一次光刻后将掩膜板旋转90o，进行第二次移动曝光光刻，最终在PMMA基板上制备了面积为10 mm×10 mm的30×30个微透镜阵列，阵列中每个微透镜的直径约248μm、厚度约82μm。同时也研究了X光曝光量与PMMA刻蚀深度之间的关系。微透镜阵列形貌测试表明此种制备微透镜阵列的新方法是可行的。