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同成分LiNbO3（LN）中分别掺入摩尔分数为2%,4%,4.5%的HfO2,用提拉法生长3种Hf：LN晶体。测试了Hf：LN晶体光学均匀性和红外光谱。以质子交换法制备Hf：LN波导基片,采用全息法测量Hf：LN波导基片光损伤阈值。结果表明：Hf：LN晶体具有较高的光学质量;4%Hf：LN晶体和4.5%Hf：LN晶体的OH-吸收峰由LN晶体的3482cm-1移到3488cm-1。4%Hf：LN晶体和4.5%Hf：LN晶体光损伤阈值比LN晶体高1个数量级;掺4%Hf4＋在Hf：LN晶体中达到阈值浓度。讨论了