超高产水稻培矮64S/E32及其亲本叶片的光氧化特性和遗传特点

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通过外源甲基紫精(MV)光氧化处理(200μmol/L MV,PPFD 2000μmol·m^-2·s^-1,1h)研究超高产杂交水稻培矮64S/E32及其父本(E32)、母本(培矮64S)叶片的耐光氧化性及其生理机理。与只照强光的对照相比,光氧化导致电解质渗漏率增加,膜脂过氧化加剧,降低PSⅡ活性(Fv/Fm、ФⅡ)及叶绿素荧光猝灭(qp,NPQ),增加抗光氧化保护酶(SOD,APX)的活性,高产杂交水稻培矮64S/E32的这些参数的变化表现出杂种优势(中亲或超亲优势),且偏向于母本
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