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介绍了助剂硅的两种不同加入方式和不同加入量的MoNiP催化剂,并对其进行N2物理吸附、拉曼光谱和H2-TPR表征。结果表明：不同量的助剂硅使MoNiP催化剂的H2-TPR还原峰不同程度的后移,但同时还原峰的峰面积增加。不同量硅的加入,使MoNiP催化剂中八面体配位的钼不同程度的增多。八面体配位的钼越多,催化剂的起始还原温度越低。