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尽管有很多模模型对平面磁控溅射膜厚分布进行了模拟，但对大面积如半球形的头罩膜厚分布的模拟则没有涉及。本文根据磁控溅射球冠形基片上膜厚分布规律出发，分析了几个可能实际头罩均匀镀膜的模型，并对不同的模型进行了计算机模拟，找出了实现头置均匀镀膜的最佳方式，并得到了实际验证。
磁控溅射头置镀膜膜厚度分布模拟
【摘 要】
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尽管有很多模模型对平面磁控溅射膜厚分布进行了模拟，但对大面积如半球形的头罩膜厚分布的模拟则没有涉及。本文根据磁控溅射球冠形基片上膜厚分布规律出发，分析了几个可能实际
【机 构】
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西北工业大学材料科学与工程系
【出 处】
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西北工业大学学报
【发表日期】
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2002年1期
【基金项目】
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国防“九五”预研（J12．2．8）资助,,陕西省自然科学基金（99C29）资助
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