阵列化锰铜高压传感器的研制

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【摘要】

：

通过传感器的结构设计、敏感材料和封装材料的研制以及采用新的传感器制备工艺,制作了一种新型的薄膜式锰铜传感器.采用熔融石英材料作为绝缘基板.在绝缘基板上沉积锰铜敏感

【作者】

：

段建华杨邦朝杜晓松周鸿仁

【机构】

：

电子科技大学

【出处】

：

传感器技术

【发表日期】

：

2003年10期

【关键词】

：

阵列化锰铜高压传感器熔融石英后置式压力测量 manganin sensor fused silica back configuration

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通过传感器的结构设计、敏感材料和封装材料的研制以及采用新的传感器制备工艺,制作了一种新型的薄膜式锰铜传感器.采用熔融石英材料作为绝缘基板.在绝缘基板上沉积锰铜敏感薄膜.并在敏感薄膜的上面沉积SiO2封装层薄膜.根据"后置"式传感器由阻抗匹配原则,计算出铝靶板中的最高压力为51.68GPa,SiO2封装材料中的压力为35.396GPa.

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