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期刊论文
Poly—Si TFT制备工艺
Poly—Si TFT制备工艺
来源 :光电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hhenry123
【摘 要】
:
在有源矩阵液晶显示中,目前倍受重视的应数多晶硅有源矩阵液晶显示技术,本文较详细地给出了高温多晶硅薄膜晶体管的制备工艺及其特性,并分析讨论了制备条件对多晶硅薄膜晶体管各
【作 者】
:
刘晓彦
孙卫
【机 构】
:
北京大学微电子所
【出 处】
:
光电子技术
【发表日期】
:
1997年1期
【关键词】
:
有源矩阵
液晶显示
多晶硅
薄膜晶体管
AMLCD
AMLCD
polysilicon
TFT
fabrication
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在有源矩阵液晶显示中,目前倍受重视的应数多晶硅有源矩阵液晶显示技术,本文较详细地给出了高温多晶硅薄膜晶体管的制备工艺及其特性,并分析讨论了制备条件对多晶硅薄膜晶体管各种参数的影响。
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