【摘 要】
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国产光栅尺的动态性能和精度均达不到数控机床的要求,而影响光栅尺精度的关键步骤是光刻,光刻过程中的影响因素包括机床安装的垂直度和抗干扰度,机床轨道的表面精度和水平度
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国产光栅尺的动态性能和精度均达不到数控机床的要求,而影响光栅尺精度的关键步骤是光刻,光刻过程中的影响因素包括机床安装的垂直度和抗干扰度,机床轨道的表面精度和水平度以及环境温度等等,其中对环境温度影响却少有研究.为了能更好的提高光栅尺的精度,本文基于Matlab对光刻过程中的曝光灯热辐射做了数据模拟分析,发现曝光灯的热辐射对光刻时的子光栅刻度等距性有很大影响,而控制这个热辐射数值目前在国内可行性更高,因为无论对于这个控制系统的复杂程度还是所需成本,相比于高精度的温度梯度微环境控制,都有一定的优越性.
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