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存在界面陷阱的n沟6H-SiC MOSFET温度特性研究
存在界面陷阱的n沟6H-SiC MOSFET温度特性研究
来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hua3287226
【摘 要】
:
利用二维器件仿真软件MEDICI建立了具有指数分布界面陷阱的n沟6H-SiC场效应晶体管的结构模型和物理模型,通过模拟研究,分析和讨论了界面陷阱对器件阈值电压、跨导及其温度特
【作 者】
:
韩军
柴常春
杨银堂
曾晓
【机 构】
:
西安电子科技大学微电子所
【出 处】
:
固体电子学研究与进展
【发表日期】
:
2004年3期
【关键词】
:
碳化硅场效应晶体管
特性模拟
界面陷阱
SiC-MOSFET
characteristic simulation
interface traps
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利用二维器件仿真软件MEDICI建立了具有指数分布界面陷阱的n沟6H-SiC场效应晶体管的结构模型和物理模型,通过模拟研究,分析和讨论了界面陷阱对器件阈值电压、跨导及其温度特性的影响.
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