【摘 要】
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以镁钇掺杂的氧化锌(ZnO)陶瓷靶作为溅射靶材,采用射频磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了镁钇合掺ZnO(MYZO)薄膜样品.通过X射线衍射仪和分光光度计的测试表征,研究了薄膜厚度对
【机 构】
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中南民族大学 电子信息工程学院,武汉430074中南民族大学 智能无线通信湖北省重点实验室,武汉430074;中南民族大学 电子信息工程学院,武汉,430074;
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以镁钇掺杂的氧化锌(ZnO)陶瓷靶作为溅射靶材,采用射频磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了镁钇合掺ZnO(MYZO)薄膜样品.通过X射线衍射仪和分光光度计的测试表征,研究了薄膜厚度对MYZO样品结构性质和光学性能的影响.结果表明:MYZO样品均为六角纤锌矿型的多晶结构,并且其择优取向生长特性明显受到薄膜厚度的影响,当薄膜厚度为290 nm时,MYZO样品具有(002)择优取向生长特性.另外通过光学表征方法获得了MYZO样品的光学能隙、折射率和消光系数,结果显示:MYZO样品的光学能隙大于未掺杂ZnO能隙,其折射率均表现为正常色散特性,并且遵循Wemple-DiDomenico单振子色散模型.
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