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介绍了一种基于中等VI径光斑的新型激光预处理技术。采用基频最大输出10J的Nd：YAG调Q激光器，获得了直径5mm、能量密度满足预处理需求的中等口径光斑。较之于小光斑处理方案，采用中等光斑进行扫描，可以显著压缩大口径光学元件的预处理总耗时。为了验证效果，搭建了实验平台，在陪镀片上开展了光斑扫描与损伤阈值测量实验，设计了合理的中等光斑预处理流程，并对闽值提升效果进行了验证。在此基础上，开展了正式元件的预处理实验，采用大行程二维电动位移台，对430mm×430mm口径的金属铪蒸发工艺高反膜元件进行了