【摘 要】
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在现代半导体科学技术中,“MOCVD”是生长所需各种各样光、电性能材料的重要设备。“MOCVD”是金属有机物化学气相淀积的英文缩写,这种叫法最初是由美国洛克威尔公司的马纳
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在现代半导体科学技术中,“MOCVD”是生长所需各种各样光、电性能材料的重要设备。“MOCVD”是金属有机物化学气相淀积的英文缩写,这种叫法最初是由美国洛克威尔公司的马纳塞维特等人,于1968年提出来的,原意是:利用有机化合物输
In modern semiconductor science and technology, “MOCVD” is an important equipment for growing a variety of optical and electrical performance materials. “MOCVD” is the English abbreviation for the chemical vapor deposition of metal organic materials. This name was first proposed by Manasserite et al. of Rockwell Company in the United States in 1968. Its original intention was to use organic compounds to lose
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