【摘 要】
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采用分子束外延生长法在取向为的CdTeB面衬底上生长CdTe和Cd_xHg_(1-x)Te(CMT),CdTe的外延温度在25℃和250℃之间,而CMT的外延温度则为120℃。这些厚度达10μm的外延层有较
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采用分子束外延生长法在取向为的CdTeB面衬底上生长CdTe和Cd_xHg_(1-x)Te(CMT),CdTe的外延温度在25℃和250℃之间,而CMT的外延温度则为120℃。这些厚度达10μm的外延层有较好的结晶性;在77K,载流子浓度很低。分子束外延生长的CMT在生长后经过退火处理,它原来较低的霍耳迁移率会得到提高。
The growth temperature of CdTe and Cd_xHg_ (1-x) Te (CMT) grown on the CdTeB surface substrate with molecular beam epitaxy was between 25 ℃ and 250 ℃, while the epitaxial temperature of CMT was 120 ℃. These epitaxial layers up to 10 μm in thickness have good crystallinity; at 77 K, the carrier concentration is very low. Molecular beam epitaxy growth of CMT annealed after growth, it turns out that the lower Holm mobility will be increased.
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