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研究了湿化学法(120℃硝酸氧化,还有低温湿法氧化过程和高温退火组合)制备的极薄氧化物/6H-SiC结构的电学和光学性质.用深能阶暂态光谱学(电荷版)分析了电界面性质,用傅里叶变换衰减全反射红外光谱考察了极薄氧化物/6H-SiC结构的光学性质.发现界面缺陷结构的强转换依赖于应用的技术条件.
极薄氧化物/6H-SiC结构的电学和光学性质研究
【摘 要】
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研究了湿化学法(120℃硝酸氧化,还有低温湿法氧化过程和高温退火组合)制备的极薄氧化物/6H-SiC结构的电学和光学性质.用深能阶暂态光谱学(电荷版)分析了电界面性质,用傅里叶
【机 构】
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斯洛伐克科学院物理研究所,科学与工业研究所,大阪大学,化学、食品技术和应用光化学系
【出 处】
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冶金分析
【发表日期】
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2004年期
【基金项目】
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非常感谢对日本学术振兴会(JSPS)和下述斯洛伐克基金会APVV-项目;VEGA-项目
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