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采用真空蒸发法制备了4-硝基-4-二甲基氨基偶氮苯(Azo)薄膜,研究了蒸发温度和薄膜厚度的关系.分别通过紫外-可见光谱和Z-扫描的方法研究了Azo薄膜的线性光学性质以及薄膜的三阶非线性光学性质.结果 表明:Azo薄膜的紫外-可见光谱比Azo溶液紫外可见光谱蓝移了61 nm,该化合物薄膜的光学带隙(Eg)为2.71 eV;Azo薄膜呈现明显饱和吸收和自聚焦的非线性现象,其三阶非线性极化系数达到10-7(esu)数量级,这表明该类Azo化合物材料可以作为全光开关的候选材料.