非晶GaAs1-xNx薄膜的形貌和光学性能

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【摘要】

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采用磁控溅射方法在硅片上,成功制备了不同氮偏压下的非晶GaAs1-xNx薄膜.结合AFM和光谱仪等手段对样品进行了表征,结果表明：随着氮气的引入,α-GaAs薄膜的球状颗粒转变为针状

【作者】

：

张瑞玲王莹

【机构】

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商丘职业技术学院

【出处】

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河南科学

【发表日期】

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2007年4期

【关键词】

：

磁控溅射 GaAs1-xNx薄膜 AFM 光吸收谱 magnetron sputtering GaAs1-xNx films AFM absorption

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采用磁控溅射方法在硅片上,成功制备了不同氮偏压下的非晶GaAs1-xNx薄膜.结合AFM和光谱仪等手段对样品进行了表征,结果表明：随着氮气的引入,α-GaAs薄膜的球状颗粒转变为针状颗粒;并且随着氮偏压的升高,针状颗粒密度逐渐增大,薄膜表面的粗糙度逐渐减小;随着氮偏压的升高,a-GaAs1-xNx薄膜的光吸收边明显蓝移.

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