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研究了采用感耦等离子体质谱分析高纯稀土氧化物中痕量稀土杂质时的基体谱线干扰问题，以Ｐｒ和Ｈｏ为例，定量考察了基体的质谱峰对相领持谱的谱线干扰及其与仪器分辨率和极偏压的关系；以Ｙ为例，研究了除氧化物和氢氧化物外的其他基体衍生物的干扰及其与仪器工作条件的关系，结果表明，高纯稀土氧化物基体浓度为ｍｇ／ｍｌ时，分辨率应控制在０．６ａｍｕ以下，除基体的ＭＯ＾＋ＭＯＨ＾＋离子干扰外，还存在着比较严重的ＭＨ＾＋