【摘 要】
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在pH4.56的BR缓冲溶液中,DNA能使硫堇的光散射增强,荧光发生猝灭。本实验基于硫堇的三维光谱讨论了其发光属性,并通过在普通荧光光度计上单次扫描同时获得的539nm处的光散射
【机 构】
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西南大学化学化工学院发光与实时分析重庆市重点实验室,西南大学药学院发光与实时分析重庆市重点实验室
【基金项目】
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本文系国家自然科学基金（No.20425517）资助项目
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在pH4.56的BR缓冲溶液中,DNA能使硫堇的光散射增强,荧光发生猝灭。本实验基于硫堇的三维光谱讨论了其发光属性,并通过在普通荧光光度计上单次扫描同时获得的539nm处的光散射强度（I539）与630nm处的荧光强度（F630）之比,建立了测定痕量DNA的光散射/荧光比率法。当硫堇的浓度为1.0×10^-4mol/L时,方法的线性范围为0.1~1.6mg/L,检测限为（3σ）为12.0μg/L。将所建立的方法用于DNA合成样品的测定,回收率为94.9%~107.0%,相对标准偏差小于3.0%。
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