GeSi/Si异质结红外摄像器

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论述了单片512×512像素的GeSi/Si异质结红外摄像器。它的工作原理和PtSi/Si肖特基势垒红外摄像器一样。制造GeSi/Si异质结采用分子束外延法,在Si片上生长GeSi膜。该膜有理想的应力。文章评价了Ge成份、掺杂浓度、GeSi膜厚和光谱响应的关系。研究表明器件的最佳工作波长为8 ̄12μm。
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