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TPD：CuPc LB薄膜电子阻挡层对电致发光的影响

来源 :天津理工学院学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zhaoleiBCB

【摘要】

：

ＴＰＤ：ＣｕＰｃＬＢ薄膜作为电子阻挡层被引入到ＩＴＯ／ＴＰＤ：ＣｕＰｃ／Ａｌｇ：ＤＣＭ１／Ａｌ电致发光器件中的ＰＰＶ和Ａｌｑ：ＤＣＭ１层之间，不含任何ＴＰＤ：ＣｕＰｃ层或仅含单层ＴＰＤ：ＣｕＰｃ且在较高直流电压（≥８Ｖ）驱动下的器件，它们的发射光谱同时来自ＰＰＶ（５１３ｎｍ）和Ａｌ：ＤＣＭ１（５９１ｎｍ）。相反，当含单层ＴＰＤ：ＣｕＰｃ的器件在较低电压驱动

【作者】

：

华玉林候延冰

【机构】

：

天津理工学院材料物理所,北方交通大学光电子技术所

【出处】

：

天津理工学院学报

【发表日期】

：

1999年1期

【关键词】

：

朗谬尔薄膜电子阻挡层 TPD 电致发光 LB薄膜

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ＴＰＤ：ＣｕＰｃＬＢ薄膜作为电子阻挡层被引入到ＩＴＯ／ＴＰＤ：ＣｕＰｃ／Ａｌｇ：ＤＣＭ１／Ａｌ电致发光器件中的ＰＰＶ和Ａｌｑ：ＤＣＭ１层之间，不含任何ＴＰＤ：ＣｕＰｃ层或仅含单层ＴＰＤ：ＣｕＰｃ且在较高直流电压（≥８Ｖ）驱动下的器件，它们的发射光谱同时来自ＰＰＶ（５１３ｎｍ）和Ａｌ：ＤＣＭ１（５９１ｎｍ）。相反，当含单层ＴＰＤ：ＣｕＰｃ的器件在较低电压驱动下（〈７Ｖ）或含双层ＴＰＤ：ＣｕＰｃ的器

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