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本文应用碰撞理论研究了硅在ＫＯＨ溶液中各向异性腐蚀的机理，结果表明，硅在ＫＯＨ溶液中的各向异性腐蚀速率不但与硅材料晶面原子密度差异有关，而且还与活化离子ＯＨ＾－数有关，活化粒子数与Ｔ＾３／２ｅ＾Ｅ／ＫＴ成正比，应用本文给出了腐蚀机理能满意解释硅在ＫＯＨ溶液中各向异性腐蚀的实验结果。
硅在KOH溶液中各向异性腐蚀机理的研究
【摘 要】
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本文应用碰撞理论研究了硅在ＫＯＨ溶液中各向异性腐蚀的机理，结果表明，硅在ＫＯＨ溶液中的各向异性腐蚀速率不但与硅材料晶面原子密度差异有关，而且还与活化离子ＯＨ＾－数有关，活化粒子数与Ｔ＾３／２ｅ＾Ｅ／ＫＴ成正比，应
【机 构】
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黑龙江大学物理系
【出 处】
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黑龙江大学自然科学学报
【发表日期】
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1996年3期
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