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期刊论文
可溶性阳极电镀填孔技术稳定性探讨
可溶性阳极电镀填孔技术稳定性探讨
来源 :印制电路信息 | 被引量 : 0次 | 上传用户:triumphis
【摘 要】
:
主要从可溶性填孔方面的电镀槽液不稳定,连续生产会出现填孔失效原因分析入手,通过对槽液的X射线光电子能谱分析以及加入我公司新型电镀稳定剂进行填孔性能方面的研究,当槽液中
【作 者】
:
席道林
万会勇
【机 构】
:
广东东硕科技有限公司
【出 处】
:
印制电路信息
【发表日期】
:
2016年A01期
【关键词】
:
稳定剂
凹陷
循环伏安法
Stabilizer
Dimple
CVS(Cyclic Voltammetry Stripping)
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主要从可溶性填孔方面的电镀槽液不稳定,连续生产会出现填孔失效原因分析入手,通过对槽液的X射线光电子能谱分析以及加入我公司新型电镀稳定剂进行填孔性能方面的研究,当槽液中加入稳定剂的量大于5m1/L时,槽液可保持良好的填孔能力,且槽液能保持相当长的稳定性。
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