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表面微结构的制备是微光子器件制备过程中一个十分重要的步骤。为了降低工艺复杂性和成本，把软刻技术与溶胶一凝胶材料相结合应用于微光子器件中光路微结构图案的制备。采用软刻工艺，即通过表面带微结构图案的弹性模板压印在玻璃或硅片上溶胶-凝胶来实现微结构图形的转移，研究重复使用PDMS模板来压印出微结构图案。用高倍光学显微镜和扫描电子显微镜（SEM）观察所制备的溶胶-凝胶材料的表面微结构，分析影响压印结果的因素，获得了畸变小的表面微结构，如线阵结构（1维光栅）和点阵结构（2维光栅结构）图案。