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本实验以HClO4/NaBrO3/KMnO4/CrO3/FeCl3为氧化插层体系制备低温可膨胀石墨,研究了氧化插层试剂对膨胀容积的影响。其最佳工艺条件是在常温下反应40min,石墨、高氯酸、溴酸钠、高锰酸钾、三氧化铬、三氯化铁的最佳质量比为1:4:0.15:0.15:0.13:0.03,制得的可膨胀石墨在220℃时膨胀容积为201mL/g。实验中还用X射线衍射法研究了插层反应对石墨结构的影响。