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光刻技术要数现代集成电路上的第一大难题。光蚀刻系统制造的精细程度取决于很多因素。但是实现跨越性进步的有效方法是降低使用光源的波长。现在,晶圆制造的工艺技术发展的确到了一个转折点。有人认为EUV光刻能够拯救摩尔定律,但事实是否真的如此还有待验证。
EUV光刻技术与摩尔定律
【摘 要】
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光刻技术要数现代集成电路上的第一大难题。光蚀刻系统制造的精细程度取决于很多因素。但是实现跨越性进步的有效方法是降低使用光源的波长。现在,晶圆制造的工艺技术发展的
【机 构】
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昆明理工大学研究生院
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2017年3期
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