【摘 要】
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应用材料公司近日推出Aera2 for Lithography系统。半导体制造商通过运用该系统的IntenCD技术可以提升硅片的临界尺寸一致性（CDU）超过20％，增加器件的良率并降低每片硅片的图形曝
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应用材料公司近日推出Aera2 for Lithography系统。半导体制造商通过运用该系统的IntenCD技术可以提升硅片的临界尺寸一致性（CDU）超过20％，增加器件的良率并降低每片硅片的图形曝光成本。此外，Aera2 for Lithography系统可以延长光掩膜的寿命并提高整个光刻区域的生产力。
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