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介绍了用于惯性约束聚变分解实验的铝调制靶的制备.以半导体光刻工艺结合化学腐蚀工艺在铝箔表面引入周期为50 μm的条槽图形,研究腐蚀条件对腐蚀速率的影响;采用光学显微镜、扫描电镜和台阶仪对图形形貌和样品表面成分进行测量和分析,获得厚度在32 μm左右、腐蚀深度达到20 μm的铝调制靶.
深振幅Al调制靶的化学腐蚀制备工艺研究
【摘 要】
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介绍了用于惯性约束聚变分解实验的铝调制靶的制备.以半导体光刻工艺结合化学腐蚀工艺在铝箔表面引入周期为50 μm的条槽图形,研究腐蚀条件对腐蚀速率的影响;采用光学显微镜
【机 构】
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同济大学
【出 处】
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强激光与粒子束
【发表日期】
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2005年9期
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