【摘 要】
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利用X射线衍射分析和动电位扫描技术等测试手段,考察电沉积工艺条件对Pd-Co合金镀层微观相结构和耐蚀性的影响。结果表明：钯钴合金沉积层的晶粒尺寸D（111）随电流密度、pH值和沉
【机 构】
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广东省城市建设技工学校工业分析与质量检验专业,华南理工大学材料科学与工程学院,湖南大学材料学院,湖南大学化学化工学院
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利用X射线衍射分析和动电位扫描技术等测试手段,考察电沉积工艺条件对Pd-Co合金镀层微观相结构和耐蚀性的影响。结果表明：钯钴合金沉积层的晶粒尺寸D（111）随电流密度、pH值和沉积时间的增加呈先减小后增大的变化趋势,随着镀液温度的升高而不断增大;当电流密度为1.0A/dm^2,pH值为8.3,沉积时间为30min时,其晶粒尺寸最小,为8.2396nm;当电流密度为1.0A/dm^2,镀液温度为35℃,pH值为8.3时,钯钴合金沉积层的耐蚀性最强;而沉积时间对合金耐蚀性的影响不大。
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