【摘 要】
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为减少化学气相沉积（CVD）ZrC涂层的缺陷,提高涂层的性能和使用寿命,深入分析化学气相沉积过程中ZrC涂层的缺陷特征和形成机制,主要利用扫描电镜对CVD-ZrC涂层的表面和断口进行
【机 构】
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中南大学粉末冶金国家重点实验室,中南大学冶金与环境学院
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为减少化学气相沉积（CVD）ZrC涂层的缺陷,提高涂层的性能和使用寿命,深入分析化学气相沉积过程中ZrC涂层的缺陷特征和形成机制,主要利用扫描电镜对CVD-ZrC涂层的表面和断口进行观察。结果表明：ZrC涂层中存在的3类典型缺陷,即裂纹、片状脱落和＂蠕虫状＂凸起,裂纹是在涂层生长过程或冷却过程中受到热应力形成的。片状脱落发生在薄膜边缘应力集中的局部区域,慢速沉积可以有效消除网状缺陷和面缺陷,也可有效抑制贯穿裂纹甚至片状剥落的出现;＂蠕虫状＂凸起形成于反应器进气口易形成紊流场的位置,该凸起起到了类似韧性相增
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