【摘 要】
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用电沉积法在碳糊电极表面修饰钴、镍、铜制得修饰碳糊电极,研究了H2O2在钴、镍、铜修饰碳糊电极上的电化学行为,用计时安培法对H2O2进行了的测定,在浓度为3.25 ×10?6 m
【机 构】
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江苏省兴化楚水实验学校,扬州市职业大学
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用电沉积法在碳糊电极表面修饰钴、镍、铜制得修饰碳糊电极,研究了H2O2在钴、镍、铜修饰碳糊电极上的电化学行为,用计时安培法对H2O2进行了的测定,在浓度为3.25 ×10?6 mol/L~3.25 ×10?4 mol/L范围内H2O2浓度与电流呈线性关系,检出限为3.0 ×10?7 mol/L。并且将该方法用于实际样品的检测,结果表明该方法选择性好,分析速度快,操作简单。
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