铜掺杂碳膜的蒙特卡罗模拟及其电学特性的计算

来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:silencegrrr
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采用蒙特卡罗的方法模拟了铜掺杂碳膜的淀积过程。首先建立空间网格结构,通过在网格结构上随机降落原子来模拟薄膜的淀积过程。薄膜的电学特性通过解泊松方程来计算。仿真结果表明,薄膜表面的粗糙程度随着碳含量的上升而下降;含碳量为20%~25%的薄膜电阻很低而含碳量在60%~75%的薄膜电阻则很高。仿真结果与现有实验结果高度吻合,保证了仿真的正确性。
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