【摘 要】
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采用磁控溅射工艺制备了不同沉积温度的V-Al-Si-N涂层,利用X射线衍射、扫描电镜、纳米压痕仪和摩擦磨损试验机对涂层的结构和性能进行了分析.研究结果表明:室温下制备的涂层
【机 构】
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中南大学航空航天学院 长沙410083中国科学院宁波材料技术与工程研究所 宁波315201;中南大学航空航天学院 长沙410083;中国科学院宁波材料技术与工程研究所 宁波315201;中南大学航空航
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采用磁控溅射工艺制备了不同沉积温度的V-Al-Si-N涂层,利用X射线衍射、扫描电镜、纳米压痕仪和摩擦磨损试验机对涂层的结构和性能进行了分析.研究结果表明:室温下制备的涂层生长缺陷较多,残余应力较大.适当提高沉积温度至300℃,涂层的晶体结晶性得到提高,柱状晶粗大贯穿整个膜厚,晶粒尺寸变大;继续提高沉积温度至500℃时,涂层呈(200)择优取向,晶粒尺寸变小,涂层致密度提高.随着沉积温度的提高,涂层的硬度略有下降,但是涂层的摩擦学性能得到大幅度提升.500℃制备涂层的硬度为29.7 GPa,磨损率达到6.1×10-17 m3/Nm,比室温制备的涂层的磨损率降低了两个数量级.
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