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双靶磁控溅射镀膜机及镀膜工艺
双靶磁控溅射镀膜机及镀膜工艺
来源 :核聚变与等离子体物理 | 被引量 : 0次 | 上传用户:duanxiaoxiao1
【摘 要】
:
介绍了双靶磁探溅射镀膜机的结构、工作原理、主要功能同时还简述了非反应与反应溅射相结合的工艺技术,制备了渐米Al-N/Al太阳能选择性吸收涂层以及TiO2/Al反光保护膜层。
【作 者】
:
吴代方
童强
【机 构】
:
核工业西南物理研究院
【出 处】
:
核聚变与等离子体物理
【发表日期】
:
1998年2期
【关键词】
:
反应溅射
选择性吸收涂层
镀膜机
镀膜工艺
Reactive sputteringSelective absorption surface
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介绍了双靶磁探溅射镀膜机的结构、工作原理、主要功能同时还简述了非反应与反应溅射相结合的工艺技术,制备了渐米Al-N/Al太阳能选择性吸收涂层以及TiO2/Al反光保护膜层。
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