0.18μm射频SOI LDMOS功率器件的研究

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在提出0.18μm射频SOI LDMOS功率器件研究方法的基础上,对工艺进行了设计,并制备了栅宽为1200μm,栅长为0.7μm,漏的注入区与栅的距离为1.5μm的0.18μm射频SOI LDMOS功率器件。对器件进行了测试和模拟,在工作频率为3GHz,直流偏置电压VDs为3V,VGS为1.5V,输入功率Pin为5 dBm时,Pout、增益和PAE分别为15 dBm、10dB和35%。
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