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为了解决纳米试样超光滑表面的制备问题，将能提供稳定声压场的声悬浮抛光技术应用到流体抛光中，开展了声压场和磨粒流场之间关系的分析。利用Matlab／PDE532具箱对抛光装置内部声压仿真的方法，对比不同反射端对抛光槽声压场的影响，优化了适合抛光的反射端形状尺寸和发射端与反射端之间的距离。利用PIV测试分析了磨粒流场与声压场的相关性，建立了声压场和磨粒流场之间的关系。试验结果表明，磨粒的运动方向与声压等势线大致相同，而且磨粒的最大速度与声压大小成正比。